נידוף שכבות דקות(Sputtering)

מערכת ניתוז (sputtering) – מערכת לשיקוע של שכבות דקות בתא ואקום. שיטת השיקוע מתבססת על האצת יונים כלפי מטרה מוצקה של חומר הציפוי. היונים מגיעים למטרה באנרגיה גבוהה, מתנגשים בה , שוברים את הקשרים הכימיים בין האטומים ומוציאים אותם מפני השטח. האטומים שיצאו מהמטרה מצפים את הדגמים. עובי הציפוי מבוקר ע”י גביש יעודי הרגיש למסת החומר המצפה. הפרמטרים לשליטה על איכות הציפוי הם: אנרגיה וספיקת היונים המואצים אל המטרה, טמפרטורה של הדגמים והלחץ בתא הציפוי. טכניקה זו מנוצלת לשיקוע של מגוון רחב של ציפויים כדוגמת מתכות, מוליכים למחצה ותרכובות קראמיות המיושמים במגוון עצום של התקנים בתחום מיקרואלקטרוניקה, אופטיקה, אלקטרואופטיקה, מכאניקה, ועוד..

לפרטים נוספים ניתן לפנות לדימיטרי רוזן 04-8294597